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进入1.4nm节点比台积电更快:Intel 14A工艺关键指标D0提前一年实现
📋总体概括
Intel的1.4nm级14A工艺进展超出预期,CFO David Zinsner称其顺利程度是22nm工艺以来从未有过的。据曝光资料,今年6月14A缺陷密度已达D0 0.5,目标2027年Q1做到D0 0.1-0.2,进度比18A节点领先3-4个季度,意味着提前一年量产的说法有实据支撑,量产时间可能提前到2028年上半年甚至Q1。缺陷密度直接决定良率:D0小于0.1对应小芯片90%以上良率、AI大芯片65-75%良率,而D0 0.5仅约10%良率,尚不具备量产条件。14A被视为Intel真正赶超台积电的关键节点。
⚡关键信息
- ▸Intel 14A工艺今年6月缺陷密度已达D0 0.5,目标2027年Q1做到D0 0.1-0.2
- ▸CFO Zinsner称14A进展顺利程度是22nm工艺以来从未有过的表现
- ▸14A整体进度比18A领先3-4个季度,量产或提前至2028年上半年甚至Q1
- ▸D0 0.5下AI大芯片良率仅约10%,D0小于0.1才能实现65-75%良率
- ▸Intel在18A节点追平台积电后,14A被视为赶超台积电的关键一役
🔥犀利点评
先泼冷水:D0 0.5意味着10%良率,离量产还隔着十万八千里,现在谈「赶超台积电」为时尚早。但真正值得注意的是节奏——14A比18A提前3-4个季度达到关键里程碑,说明18A的量产爬坡经验在反哺新工艺,这才是Intel多年未有的良性信号。不过Intel在制程叙事上画饼成瘾,18A至今没有拿得出手的外部大客户订单背书,14A即便2028年量产,也要看有没有人愿意把旗舰芯片押注在一家刚翻身的企业身上。技术追赶是真,商业翻盘另说。
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