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英特尔与阿斯麦推进高NA EUV量产,已处理超100万片晶圆
📋总体概括
英特尔晶圆代工(Intel Foundry)与阿斯麦(ASML)宣布,双方正持续推进高数值孔径(High NA)极紫外光刻(EUV)技术的量产应用。英特尔目前已通过早期设备认证、研发及部分量产环节处理超过100万片晶圆,高NA EUV已用于英特尔酷睿Ultra 3系列处理器“Panther Lake”部分层的量产。英特尔表示,采用高NA EUV的英特尔18A制程产品性能达到或超过使用传统0.33数
⚡关键信息
- ▸英特尔晶圆代工(Intel Foundry)与阿斯麦(ASML)宣布,双方正持续推进高数值孔径(High NA)极紫外光
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