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韬定律的反击:核心技术未来靠什么突破?

华尔街见闻·2026/9/20 01:01:18🔗 原文

📋总体概括

华为半导体业务部总裁何庭波2026年9月4日在中科院预发布平台ChinaXiv提交第三篇论文,以麒麟2026量产芯片分模块实测数据回应「三维堆叠必然发烫」的质疑。晶体管密度提升55%至每平方毫米2.38亿颗,等性能下NPU功耗降66%、GPU降58%、CPU性能核降41%,NPU功率密度降73%。其机理是逻辑折叠将水平长走线换成垂直短互连,关键路径最高缩短70%。文章指出韬定律将性能进步与光刻制程部分解耦,混合键合等设备需求形成确定性产业曲线。

关键信息

  • 何庭波以麒麟2026量产芯片分模块实测数据,首次正面回应三维堆叠散热的行业质疑
  • 晶体管密度从1.55亿颗/平方毫米提升至2.38亿颗,增幅55%,等性能下NPU功耗下降66%
  • NPU功率密度下降73%,时钟缓冲器从4.36万个降至1.9万个,核心走线缩短约20%、关键路径最高缩短70%
  • 技术机理为逻辑折叠:以垂直短互连替代水平长走线,实现「搬得更少」而非「算得更少」
  • 混合键合间距沿1500nm至480nm路线演进,形成与EUV进度脱钩的确定性设备需求,ALD、TSV、CMP等构成五道关口

🔥犀利点评

用预发布平台发论文、拿量产芯片实测数据说话,这本身就是一种姿态:不靠PPT,靠良率。韬定律的价值不在单点降功耗,而在于把摩尔定律的进度绑架权从ASML手里分走一半——键合间距路线图独立于EUV演进,中国设备商第一次有了确定性需求曲线可追。但「五道关口」个个都是硬骨头,ALD薄膜和量检测不是发三篇论文就能补齐的,别让方法论红利掩盖了设备短板。

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