产业观察🔥7.0
重大突破!国产EUV光源样机首秀:国产化率达90%
📋总体概括
在第二十六届中国国际工业博览会上,朗道燧岩首次公开展示国产EUV光源系统样机,国产化率达90%,核心零部件多为自主研发,技术路线与国际领先厂商一致,可用于芯片曝光测试。EUV光源是7nm及以下先进制程芯片的核心零部件之一,长期受海外垄断与禁运限制。这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机,标志着国产EUV从实验室走向产业化迈出关键一步,但距离量产仍需3至5年。
⚡关键信息
- ▸朗道燧岩在上海工博会首次公开展示EUV光源系统样机,是公开进度最靠前的国产样机
- ▸样机国产化率达90%,绝大多数核心零部件为自主研发,可用于芯片曝光测试
- ▸技术路线与国际领先厂商一致,EUV光源被称为高端光刻机的「心脏」
- ▸EUV光源是7nm及以下先进制程芯片三大核心零部件之一,长期受海外禁运限制
- ▸该光源系统距离量产仍需3至5年时间,产业化仍处早期阶段
🔥犀利点评
90%国产化率的EUV光源样机值得鼓掌,但请先冷静:光源只是光刻机三大难题之一,离整机量产还有3到5年,离ASML的水平差距更是以十年计。展台上的突破不等于产线上的良率,国内宣传惯于把「样机首秀」包装成「重大突破」。方向对了,但别用情绪替代工期,真正硬仗在工程化和供应链验证。
📰 相关资讯(与本文相关的其他资讯)
本文由本站自动聚合,以下为原始来源:前往 驱动之家 阅读全文 →